半导体行业对超纯水设备有什么要求?制水流程是怎样?
超纯水设备主要针对电子、半导体、液晶显示、玻璃镜片,导光板,手机屏幕、集成电路芯片、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、集成电路需用大量的超纯水来清洗半成品、成品,如果所用水质达不到生产工艺用水的要求或者水质不稳定就会影响到清洗效果和使用寿命。特别是电子行业的电子管生产中,如果超纯水中混入杂质,就会影响电子的发射,进而影响电子管的放大性能及寿命,用在显像管和阴极射线管生产中就会使发光变色、变暗、闪动并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。所以每款产品在生产过程中都有严格的生产工艺,所以电子产品产品的清洗就需要电子工业用edi超纯水设备来满足生产需求。

半导体超纯水设备制水工艺:
预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象。
预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象。
预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象。
预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制抛光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(新工艺)。