光学清洗对纯水设备有什么要求？为什么要用纯水设备？

清洗纯水设备拥有非常高的脱盐的效率，能够承受生化化学的影响，受外界的自然因素(温度、湿度、PH值)影响极小。随着现代工业的高速发展，光学行业对于产品的质量也在不断提高，就清洗的水来说，为何不直接使用自来水，而要购买纯水设备呢，源于自来水或其它水源含一些杂质、离子、细菌之类的对光学行业非常严重的影响。光学清洗纯水设备应用包括很广泛,如玻璃制品,手表镜片,手机镜片,眼镜镜片,相机镜片,蓝宝石镜片,以及各种透明工艺品等行业。清洗是指清除工件表面上液体和固体的污染物，使工件表面达到一定的洁净程度。清洗过程是清洗介质、污染物、工件表面三者之间相互作用，是一种复杂的物理过程。随着纯水，超纯水在光学领域中的重要作用日益突出，纯水水质已成为影响光学产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一，水质要求也越来越高。在光学产品生产中，纯水主要用作纯水清洗和纯水配液，不同的工艺生产中纯水的用途及对水质的要求也不同。

1.光学清洗纯水设备的清洗周期：

在正常运行条件下，清洗纯水设备也可能被无机物垢、胶体、微生物、金属氧化物等污染，这些物质沉积在膜表面上会引起净水设备反渗透装置出力下降或脱盐率下降、压差升高，甚至对膜造成不可恢复的损伤，因此，为了恢复良好的透水和除盐性能，需要对膜进行化学清洗。一般3～12个月清洗一次，如果每个月不得不清洗一次，这说明应该改善的预处理系统，调整的运行参数。如果1～3个月需要清洗一次，则需要提高设备的运行水平。