超纯水系统工艺流程看完就学会！

石英砂过滤器是利用石英砂、无烟煤两种滤料组合后去除原水中的悬浮物等，属于普通快滤设备。

活性炭过滤器具有吸附原水中的有机物和有害物质，降低COD 含量，防止反渗透膜被被有机物污染，起到保护反渗透膜的作用。

活性炭过滤器放置在多介质过滤器后面，既可以避免原水中悬浮物和胶体堵塞活性炭微孔和炭间孔隙，减少反冲洗次数，增加活性炭吸附量。

反渗透的工作过程是原水在膜的一侧从一端流向另一端，水分子透过膜表面，从原水侧到达另一侧，而无机盐离子就留在原来的一侧。随着原水的流程逐渐增长，水分子不断从原水中取走，留在原水中的含盐量逐步增大，即原水逐步得到浓缩，而最终成为浓水，从装置中排出，浓水经浓缩后各种离子浓度将成倍增加。

进水在压力作用下，水透过反渗透膜成为纯水，通过产水管道进入后续设备；水中的杂质被反渗透膜截留并被浓水带出，利用反渗透技术可以有效地去除水中的无机盐类离子、胶体、细菌、病毒、细菌内毒素和大部分有机物等杂质。反渗透系统除盐率一般为 95-99%。

EDI（Electrodeionization）又称连续电除盐技术，它科学地将电渗析技术和离子交换技术融为一体，通过阳、阴离子膜对阳、阴离子的选择透过作用以及离子交换树脂对水中离子的交换作用，在电场的作用下实现水中离子的定向迁移，从而达到水的深度净化除盐，并通过水电解产生的氢离子和氢氧根离子对装填树脂进行连续再生。

因此EDI制水过程不需酸、碱化学药品再生即可连续制取高品质超纯水，它具有技术先进、结构紧凑、操作简便的优点，可广泛应用于电力、电子、医药、化工、食品和实验室领域，是水处理技术的绿色革命。

除 TOC 机的作用就是产生 185nm 紫外线照射，使水中的有机物分解转化成无机物二氧化碳和羧酸，后者是离子型的，可与树脂相互作用，再经过离子交换将其除去。去 TOC 紫外灯的作用主要是去除水中的 TOC，确保系统的 TOC 指标达到用户要求。UV185：波长 185nm；强度：＞180000μWs/cm2，照射时间 8000h 以上，TOC 去除率>80%。

超纯水制备中，TOC（总有机碳）的降解至关重要，采用 UV-C 波段 185nm 波长低压高能紫外技术，并结合 UV-C254nm 紫外线杀菌器，通过高剂量的 UV-185 紫外关催化，在水中产生翔基自由基，对水中的有机物进行氧化降解，以达到水中 TOC 的控制量。

抛光混床（MBI）又称一次性混床，一般情况用在工艺末端，用来更进一步提高产水水质。

抛光混床的树脂是不能再生重复使用的，所谓抛光的意思就是树脂的表面处理情况。抛光混床是由完全再生好的阴阳树脂组成，这种混床树脂产品一般应用于特殊电子行业的超纯水精制中，如生产磁盘驱动器、显示设备、CD－ROM、独立的半导体设备、低密集成电路，或者用于后级集成电路的分块和配件操作中。

这些应用即需要有高纯度的水质，又需要具有经济性。只要超纯水系统的设计合理，因为在精制混床中第一次营运出水就能达到 18M.cm，且 TOC 含量水于 5ppb。同样适合于应用于其它一些普遍的超纯水制造行业中。抛光混床的作用是进一步去除纯水出水中残余极少的阳、阴离子。